文献
J-GLOBAL ID:200902192642625568
整理番号:93A0596472
AlをドープしたZnO膜の反応性マグネトロンスパッタリング 光学,電気特性と組成,構造の堆積条件との関係
Reactive magnetron sputtering of Al doped ZnO films: dependence of optical, electrical, compositional and structural properties on deposition conditions.
著者 (5件):
ELLMER K
(Hahn-Meitner-Inst., Berlin, DEU)
,
KUDELLA F
(Opto Transmitter-Umweltschutztechnologie e.V., Berlin, DEU)
,
MIENTUS R
(Opto Transmitter-Umweltschutztechnologie e.V., Berlin, DEU)
,
SCHIECK R
(Hahn-Meitner-Inst., Berlin, DEU)
,
FIECHTER S
(Hahn-Meitner-Inst., Berlin, DEU)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
70/71
号:
Pt B
ページ:
707-711
発行年:
1993年06月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)