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文献
J-GLOBAL ID：200902192702901179
整理番号：99A0120659
OHを含まずkの低い有機シリカ膜の化学蒸着
Chemical-Vapor Deposition of OH-free and Low-k Organic-Silica Films.
UCHIDA Y
(Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN)
,
TAGUCHI K
(Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN)
,
NAGAI T
(Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN)
,
SUGAHARA S
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
MATSUMURA M
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 37 号： 12A ページ： 6369-6373 発行年： 1998年12月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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