文献
J-GLOBAL ID:200902192837935456
整理番号:99A0613810
Si(001)表面の層毎の酸化中の反射高エネルギー電子回折強度の振動
Reflection high-energy electron diffraction intensity oscillation during layer-by-layer oxidation of Si(001) surfaces.
著者 (3件):
WATANABE H
(NEC Corp., Ibaraki, JPN)
,
BABA T
(NEC Corp., Ibaraki, JPN)
,
ICHIKAWA M
(Angstrom Technol. Partnership, Ibaraki, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
74
号:
22
ページ:
3284-3286
発行年:
1999年05月31日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)