文献
J-GLOBAL ID:200902193002514260
整理番号:93A0597480
反応性スパッタによるすず,銅およびニッケルの結晶性二元窒化膜の蒸着
Deposition of crystalline binary nitride films of tin, copper, and nickel by reactive sputtering.
著者 (1件):
MAYA L
(Oak Ridge National Lab., Tennessee)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
11
号:
3
ページ:
604-608
発行年:
1993年05月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)