文献
J-GLOBAL ID:200902193068772839
整理番号:93A0466221
Bulk and surface properties of RTCVD Si3N4 films for optical device applications.
著者 (5件):
LEBLAND F
(CNET, Bagneux, FRA)
,
WANG Z Z
(Lab. Microstructures et de Micro<span style=text-decoration:overline>e ́</span>lectronique, CNRS, Bagneux, FRA)
,
FLICSTEIN J
(CNET, Bagneux, FRA)
,
LICOPPE C
(CNET, Bagneux, FRA)
,
NISSIM Y I
(CNET, Bagneux, FRA)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
69
号:
1/4
ページ:
198-203
発行年:
1993年05月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)