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文献
J-GLOBAL ID：200902193171686266
整理番号：02A0669505
化学量論的酸化物ターゲットを用いた高周波マグネトロンスパッタリングによって作製したPt/Ti/Si基板上のPb(Zr,Ti)O3薄膜の結晶化に及ぼす基板温度の影響
Effect of substrate temperature on the crystallization of Pb(Zr,Ti)O3 films on Pt/Ti/Si substrates prepared by radio frequency magnetron sputtering with a stoichiometric oxide target.
THOMAS R
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Osaka, JPN)
,
MOCHIZUKI S
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Osaka, JPN)
,
MIHARA T
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Osaka, JPN)
,
ISHIDA T
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Osaka, JPN)
資料名：
Materials Science & Engineering. B. Solid-State Materials for Advanced Technology
(Materials Science & Engineering. B. Solid-State Materials for Advanced Technology)
巻： B95 号： 1 ページ： 36-42 発行年： 2002年07月01日
JST資料番号： T0553A ISSN： 0921-5107 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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