文献
J-GLOBAL ID:200902193281283272
整理番号:93A0404680
イオン注入の統計的プロセス解析
Statistical process analysis of ion implantation.
著者 (3件):
YARLING C B
(EEESPEC, TX, USA)
,
NUNES J
(National Semiconductor Corp., CA, USA)
,
CHERECKDJIAN S
(Implant Center, CA, USA)
資料名:
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻:
74
号:
1/2
ページ:
252-256
発行年:
1993年04月
JST資料番号:
H0899A
ISSN:
0168-583X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)