文献
J-GLOBAL ID:200902193407673489
整理番号:94A0124625
Si基板上に成長するCu薄膜の機械的緩和のその場観察
In situ mechanical relaxation of Cu films growing on a Si substrate.
著者 (2件):
SU C M
(Univ. Maryland, Maryland)
,
WUTTIG M
(Univ. Maryland, Maryland)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
63
号:
25
ページ:
3437-3439
発行年:
1993年12月20日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)