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文献
J-GLOBAL ID：200902193420141283
整理番号：99A0245343
酸化拡散炉による酸化膜成膜条件の最適化
Optimization for thermal oxidation of silicon.
問山清和
(広島県西部工技セ)
,
山下弘之
(広島県西部工技セ)
,
縄稚典生
(広島県西部工技セ)
資料名：
品質工学
(Journal of Robust Quality Engineering Society)
巻： 7 号： 1 ページ： 43-49 発行年： 1999年02月
JST資料番号： L3004A ISSN： 2189-633X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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