文献
J-GLOBAL ID:200902193596476540
整理番号:00A0867319
走査型トンネル顕微鏡法/走査型トンネル分光法により調べた電子注入によるSiO2超薄膜へのトラップ生成
Trap creation in ultrathin SiO2 films due to electron injection studied by scanning tunneling microscopy/scanning tunneling spectroscopy.
著者 (3件):
OHMORI K
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
ZAIMA S
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
YASUDA Y
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
162/163
ページ:
395-400
発行年:
2000年08月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)