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文献
J-GLOBAL ID:200902193596476540   整理番号:00A0867319

走査型トンネル顕微鏡法/走査型トンネル分光法により調べた電子注入によるSiO2超薄膜へのトラップ生成

Trap creation in ultrathin SiO2 films due to electron injection studied by scanning tunneling microscopy/scanning tunneling spectroscopy.
著者 (3件):
OHMORI K
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
ZAIMA S
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
YASUDA Y
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)

資料名:
Applied Surface Science  (Applied Surface Science)

巻: 162/163  ページ: 395-400  発行年: 2000年08月 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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