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文献
J-GLOBAL ID：200902193947149258
整理番号：97A0730390
CaF2(薄膜)/Si(111)の軟X線放出分光分析 埋込界面の非破壊解析
Soft X-ray emission spectroscopy study of CaF2(film)/Si(111): non-destructive buried interface analysis.
IWAMI M
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
,
KUSAKA M
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
,
HIRAI M
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
,
TAGAMI R
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
,
NAKAMURA H
(Osaka Electro-Communication Univ., Osaka, JPN)
,
WATABE H
(Matsushita Res. Inst. Tokyo Inc., Kawasaki, JPN)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 117/118 ページ： 434-437 発行年： 1997年06月
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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