文献
J-GLOBAL ID:200902194234202988
整理番号:99A0852989
Fourier変換赤外焼成系を用いる193nmリソグラフィーのシミュレーションのパラメータの測定
Measurement of Parameters for Simulation of 193 nm Lithography Using Fourier Transform Infrared Baking System.
著者 (3件):
SEKIGUCHI A
(Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN)
,
ISONO M
(Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN)
,
MATSUZAWA T
(Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
38
号:
8
ページ:
4936-4941
発行年:
1999年08月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)