文献
J-GLOBAL ID:200902194306856309
整理番号:00A0049036
熱線堆積非晶質シリコン膜の水素化におけるポスト堆積処理の影響
Effect of Post-deposition Treatments on the Hydrogenation of Hot-wire Deposited Amorphous Silicon Films.
著者 (5件):
FEENSTRA K F
(Utrecht Univ., Utrecht, NLD)
,
ALKEMADE P F A
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
,
ALGRA E
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
,
SCHROPP R E I
(Utrecht Univ., Utrecht, NLD)
,
VAN DER WEG W F
(Utrecht Univ., Utrecht, NLD)
資料名:
Progress in Photovoltaics
(Progress in Photovoltaics)
巻:
7
号:
5
ページ:
341-351
発行年:
1999年09月
JST資料番号:
W0463A
ISSN:
1062-7995
CODEN:
PPHOED
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)