文献
J-GLOBAL ID:200902194482060383
整理番号:96A1011817
ゾル-ゲル法によるSrBi2Ta2O9薄膜の新低温処理法
New Low Temperature Processing of Sol-Gel SrBi2Ta2O9 Thin Films.
著者 (7件):
ITO Y
(Sharp Corp., Chiba, JPN)
,
USHIKUBO M
(Sharp Corp., Chiba, JPN)
,
YOKOYAMA S
(Sharp Corp., Chiba, JPN)
,
MATSUNAGA H
(Sharp Corp., Chiba, JPN)
,
ATSUKI T
(Mitsubishi Material Corp., Saitama, JPN)
,
YONEZAWA T
(Mitsubishi Material Corp., Saitama, JPN)
,
OGI K
(Mitsubishi Material Corp., Saitama, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
35
号:
9B
ページ:
4925-4929
発行年:
1996年09月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)