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文献
J-GLOBAL ID：200902194544900200
整理番号：95A0428219
原子状水素によるSi(111)-(7×7)とSi(100)-(2×1)表面のエッチング
Etching of Si(111)-(7×7) and Si(100)-(2×1) surfaces by atomic hydrogen.
WEI Y
(Arizona State Univ., Arizona)
,
LI L
(Arizona State Univ., Arizona)
,
TSONG I S T
(Arizona State Univ., Arizona)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 66 号： 14 ページ： 1818-1820 発行年： 1995年04月03日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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