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文献
J-GLOBAL ID：200902194635022893
整理番号：98A0671964
ArFリソグラフィー用環状オレフィン系レジストにおける最近の進歩
Recent Advancements In Cycloolefin Based Resists For ArF Lithography.
BYERS J
(SEMATECH, TX)
,
PATTERSON K
(Univ., Texas at Austin, TX)
,
CHO S
(Univ., Texas at Austin, TX)
,
MCCALLUM M
(SEMATECH, TX)
,
WILLSON C G
(Univ., Texas at Austin, TX)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 11 号： 3 ページ： 465-474 発行年： 1998年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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