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文献
J-GLOBAL ID：200902195002138287
整理番号：96A0188151
大規模エッチング処理用の新しい超高周波プラズマ源
New Ultra-High-Frequency Plasma Source for Large-Scale Etching Processes.
SAMUKAWA S
(NEC Corp., Ibaraki, JPN)
,
NAKAGAWA Y
(Anelva Corp., Tokyo, JPN)
,
TSUKADA T
(Anelva Corp., Tokyo, JPN)
,
UEYAMA H
(Nihon Koshuha Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
SHINOHARA K
(Nihon Koshuha Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 34 号： 12B ページ： 6805-6808 発行年： 1995年12月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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