文献
J-GLOBAL ID:200902195056098094
整理番号:00A0535728
O2/Cl2/Arプラズマ中でのTiO2ハードマスクを用いた白金エッチング
Platinum etching using a TiO2 hard mask in an O2/Cl2/Ar plasma.
著者 (2件):
CHUNG C W
(Samsung Advanced Inst. Technol., Suwon, KOR)
,
CHUNG I
(Samsung Advanced Inst. Technol., Suwon, KOR)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
18
号:
3
ページ:
835-839
発行年:
2000年05月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)