文献
J-GLOBAL ID:200902195971649744
整理番号:93A0678339
Ni(100)とNiO(100)のXPS光電子回折パターンへの弾性および非弾性寄与
Elastic and inelastic contributions to the XPS photoelectron diffraction patterns of Ni(100) and NiO(100).
著者 (5件):
STEINER P
(Univ. Saarlandes, Saarbruecken, DEU)
,
STRAUB T
(Univ. Saarlandes, Saarbruecken, DEU)
,
REINERT F
(Univ. Saarlandes, Saarbruecken, DEU)
,
ZIMMERMANN R
(Univ. Saarlandes, Saarbruecken, DEU)
,
HUEFNER S
(Univ. Saarlandes, Saarbruecken, DEU)
資料名:
Surface Science
(Surface Science)
巻:
291
号:
1/2
ページ:
154-166
発行年:
1993年07月01日
JST資料番号:
C0129B
ISSN:
0039-6028
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)