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文献
J-GLOBAL ID：200902196026589251
整理番号：01A0212544
ナノインプリントリソグラフィーに適用するための電子ビームリソグラフィーを使ったダイヤモンドモールドの作製
Preparation of Diamond Mold Using Electron Beam Lithography for Application to Nanoimprint Lithography.
TANIGUCHI J
(Sci. Univ. Tokyo, Chiba, JPN)
,
TOKANO Y
(Sci. Univ. Tokyo, Chiba, JPN)
,
MIYAMOTO I
(Sci. Univ. Tokyo, Chiba, JPN)
,
KOMURO M
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
HIROSHIMA H
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
KOBAYASHI K
(CRESTEC, Tokyo, JPN)
,
MIYAZAKI T
(CRESTEC, Tokyo, JPN)
,
OHYI H
(CRESTEC, Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39 号： 12B ページ： 7070-7074 発行年： 2000年12月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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