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文献
J-GLOBAL ID：200902196073632505
整理番号：02A0547852
SiとSiO2の親水性結合に対するプラズマ活性化の影響
Effects of Plasma Activation on Hydrophilic Bonding of Si and SiO2.
SUNI T
(VTT Electronics, Espoo, FIN)
,
HENTTINEN K
(VTT Electronics, Espoo, FIN)
,
SUNI I
(VTT Electronics, Espoo, FIN)
,
MAEKINEN J
(Okmetic Oyj, Vantaa, FIN)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 149 号： 6 ページ： G348-G351 発行年： 2002年06月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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