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文献
J-GLOBAL ID:200902196144785774   整理番号:93A0560331

炭素をドープしたベース層とベース・コレクタ接合に傾斜超格子層とを使用したInP/InGaAsダブルヘテロ接合バイポーラトランジスタ

In/P/InGaAs double heterojunction bipolar transistors incorporating carbon-doped bases and superlattice graded base-collector junctions.
著者 (8件):
GEE R C
(Univ. California, San Diego, CA, USA)
ASBECK P M
(Univ. California, San Diego, CA, USA)
LIN C L
(IBM Research Division, NY, USA)
KIRCHNER P D
(IBM Research Division, NY, USA)
WOODALL J M
(IBM Research Division, NY, USA)
FARLEY C W
(Rockwell International Science Center, CA, USA)
SEABURY C W
(Rockwell International Science Center, CA, USA)
HIGGINS J A
(Rockwell International Science Center, CA, USA)

資料名:
Electronics Letters  (Electronics Letters)

巻: 29  号: 10  ページ: 850-851  発行年: 1993年05月13日 
JST資料番号: A0887A  ISSN: 0013-5194  CODEN: ELLEAK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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