文献
J-GLOBAL ID:200902196144785774
整理番号:93A0560331
炭素をドープしたベース層とベース・コレクタ接合に傾斜超格子層とを使用したInP/InGaAsダブルヘテロ接合バイポーラトランジスタ
In/P/InGaAs double heterojunction bipolar transistors incorporating carbon-doped bases and superlattice graded base-collector junctions.
著者 (8件):
GEE R C
(Univ. California, San Diego, CA, USA)
,
ASBECK P M
(Univ. California, San Diego, CA, USA)
,
LIN C L
(IBM Research Division, NY, USA)
,
KIRCHNER P D
(IBM Research Division, NY, USA)
,
WOODALL J M
(IBM Research Division, NY, USA)
,
FARLEY C W
(Rockwell International Science Center, CA, USA)
,
SEABURY C W
(Rockwell International Science Center, CA, USA)
,
HIGGINS J A
(Rockwell International Science Center, CA, USA)
資料名:
Electronics Letters
(Electronics Letters)
巻:
29
号:
10
ページ:
850-851
発行年:
1993年05月13日
JST資料番号:
A0887A
ISSN:
0013-5194
CODEN:
ELLEAK
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)