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文献
J-GLOBAL ID：200902196191345340
整理番号：98A0678246
プラズマ増強化学蒸着法を用いた多結晶シリコン膜に対する蒸着温度の効果
Effects of deposition temperature on polycrystalline silicon films using plasma-enhanced chemical vapor deposition.
HASEGAWA S
(Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN)
,
SAKATA M
(Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN)
,
INOKUMA T
(Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN)
,
KURATA Y
(Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 84 号： 1 ページ： 584-588 発行年： 1998年07月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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