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文献
J-GLOBAL ID：200902196253223573
整理番号：03A0086240
スパッタNiO薄膜の物理特性に及ぼすプロセスパラメータ及びアニール温度の影響
The influence of process parameters and annealing temperature on the physical properties of sputtered NiO thin films.
HOTOVY I
(Slovak Univ. Technol., Bratislava, SVK)
,
HURAN J
(Inst. Electrical Engineering, Slovak Acad. Sci., Bratislava, SVK)
,
SPIESS L
(Technische Univ. Ilmenau, Ilmenau, DEU)
,
LIDAY J
(Slovak Univ. Technol., Bratislava, SVK)
,
SITTER H
(Johannes Kepler Univ., Linz, AUT)
,
HASCIK S
(Inst. Electrical Engineering, Slovak Acad. Sci., Bratislava, SVK)
資料名：
Vacuum
(Vacuum)
巻： 69 号： 1/3 ページ： 237-242 発行年： 2002年12月24日
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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