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文献
J-GLOBAL ID：200902196432188470
整理番号：94A0062323
Amorphous W40Re40B20 diffusion barriers for 〈Si〉/Al and 〈Si〉/Cu metallizations.
KOLAWA E
(California Inst. Technology, CA, USA)
,
SUN X
(California Inst. Technology, CA, USA)
,
REID J S
(California Inst. Technology, CA, USA)
,
CHEN J S
(California Inst. Technology, CA, USA)
,
NICOLET M-A
(California Inst. Technology, CA, USA)
,
RUIZ R
(Jet Propulsion Lab., CA, USA)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 236 号： 1/2 ページ： 301-305 発行年： 1993年12月15日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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