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J-GLOBAL ID：200902197302632596 整理番号：93A0664118

低温熱処理におけるHf/Si界面の結晶学的構造

Crystallographic structures of Hf/Si interfaces in low annealing temperature.

著者 (4件)：

若井伸之

(名古屋大工)

財満鎮明

(名古屋大工)

小出康夫

(名古屋大工)

安田幸夫

(名古屋大工)

資料名：

応用物理学関係連合講演会講演予稿集 (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)

巻： 40th 号： Pt 2 ページ： 670 発行年： 1993年03月
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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