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文献
J-GLOBAL ID：200902197341623014
整理番号：95A0654828
レジストとして非晶質シリコンを用いた原子間力顕微鏡リソグラフィーおよび平行操作における進歩
Atomic force microscope lithography using amorphous silicon as a resist and advances in parallel operation.
MINNE S C
(Stanford Univ., California)
,
FLUECKIGER P
(Stanford Univ., California)
,
SOH H T
(Stanford Univ., California)
,
QUATE C F
(Stanford Univ., California)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 13 号： 3 ページ： 1380-1385 発行年： 1995年05月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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