文献
J-GLOBAL ID:200902197595198917
整理番号:94A0079168
Microroughness at the Si/SiO2 interface from pre-oxidation annealing, measured using quantum oscillations in Fowler-Nordheim tunneling currents.
著者 (3件):
POLER J C
(Univ. North Carolina Chapel Hill, NC)
,
MCKAY K K
(Univ. North Carolina Chapel Hill, NC)
,
IRENE E A
(Univ. North Carolina Chapel Hill, NC)
資料名:
Evolution of Surface and Thin Film Microstructure
(Evolution of Surface and Thin Film Microstructure)
ページ:
139-142
発行年:
1993年
JST資料番号:
K19930662
ISBN:
1-55899-175-1
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)