文献
J-GLOBAL ID:200902197689736122
整理番号:93A0629815
多結晶シリコン薄膜における粒界欠陥の水素不動態化
Hydrogen passivation of grain boundary defects in polycrystalline silicon thin films.
著者 (3件):
NICKEL N H
(Xerox Palo Alto Research Center, California)
,
JOHNSON N M
(Xerox Palo Alto Research Center, California)
,
JACKSON W B
(Xerox Palo Alto Research Center, California)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
62
号:
25
ページ:
3285-3287
発行年:
1993年06月21日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)