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文献
J-GLOBAL ID：200902197953161176
整理番号：99A0196180
Cu-In蒸着二層薄膜の合金化と電気特性
Alloying and electrical properties of evaporated Cu-In bilayer thin films.
NAKANO T
(Seikei Univ., Tokyo, JPN)
,
SUZUKI T
(Seikei Univ., Tokyo, JPN)
,
OHNUKI N
(Seikei Univ., Tokyo, JPN)
,
BABA S
(Seikei Univ., Tokyo, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 334 号： 1/2 ページ： 192-195 発行年： 1998年12月04日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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