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文献
J-GLOBAL ID:200902198039861620   整理番号:98A0193172

希薄ふっ化水素酸溶液からシリコン上への銅析出の電気化学的インピーダンス分光法

Electrochemical Impedance Spectroscopy of Copper Deposition on Silicon from Dilute Hydrofluoric Acid Solutions.
著者 (7件):
CHENG X
(Univ. Arizona, Arizona, USA)
LI G
(Univ. Arizona, Arizona, USA)
KNEER E A
(Univ. Arizona, Arizona, USA)
VERMEIRE B
(Univ. Arizona, Arizona, USA)
PARKS H G
(Univ. Arizona, Arizona, USA)
RAGHAVAN S
(Univ. Arizona, Arizona, USA)
JEON J S
(Advanced Micro Devices, California, USA)

資料名:
Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)

巻: 145  号:ページ: 352-357  発行年: 1998年01月 
JST資料番号: C0285A  ISSN: 1945-7111  CODEN: JESOAN  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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