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文献
J-GLOBAL ID：200902198039861620
整理番号：98A0193172
希薄ふっ化水素酸溶液からシリコン上への銅析出の電気化学的インピーダンス分光法
Electrochemical Impedance Spectroscopy of Copper Deposition on Silicon from Dilute Hydrofluoric Acid Solutions.
CHENG X
(Univ. Arizona, Arizona, USA)
,
LI G
(Univ. Arizona, Arizona, USA)
,
KNEER E A
(Univ. Arizona, Arizona, USA)
,
VERMEIRE B
(Univ. Arizona, Arizona, USA)
,
PARKS H G
(Univ. Arizona, Arizona, USA)
,
RAGHAVAN S
(Univ. Arizona, Arizona, USA)
,
JEON J S
(Advanced Micro Devices, California, USA)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 145 号： 1 ページ： 352-357 発行年： 1998年01月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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