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文献
J-GLOBAL ID：200902198086413554
整理番号：94A0657494
低温蒸着SrTiO3薄膜コンデンサを用いた新しいGaAs-MMICプロセス技術
New GaAs-MMIC process technology using low-temperature deposited SrTiO3 thin film capacitors.
NISHITSUJI M
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
TAMURA A
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
YAHATA K
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
SHIBUYA M
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
KITAGAWA M
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
HIRAO T
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Osaka, JPN)
資料名：
Electronics Letters
(Electronics Letters)
巻： 30 号： 13 ページ： 1045-1046 発行年： 1994年06月23日
JST資料番号： A0887A ISSN： 0013-5194 CODEN： ELLEAK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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