文献
J-GLOBAL ID:200902198493132977
整理番号:01A0080090
ラジオ周波数のCF4プラズマ処理による疎油性および疎水性をもつシリカゲル表面の生成
Formation of silica gel surfaces having lipophobic and hydrophobic characters by a radio-frequency CF4 plasma treatment.
著者 (7件):
FURUKAWA K
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
IJIRI H
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
TERAYAMA H
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
NAGATA H
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
YAMAZAKI S
(Shizuoka Inst. Sci. and Technol., Shizuoka, JPN)
,
YAMAUCHI H
(Seibu Giken Co. Ltd., Fukuoka, JPN)
,
MURAOKA K
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名:
Journal of Materials Science Letters
(Journal of Materials Science Letters)
巻:
19
号:
17
ページ:
1545-1547
発行年:
2000年09月01日
JST資料番号:
D0919B
ISSN:
0261-8028
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)