文献
J-GLOBAL ID:200902198627938469
整理番号:94A0098110
反応性スパッタTiO2薄膜成長における加熱探針の効果
Effect of Heating Probe on Reactively Sputtered TiO2 Film Growth.
著者 (4件):
SHIBATA A
(Fukui National Coll. Technology, Fukui)
,
OKIMURA K
(Fukui National Coll. Technology, Fukui)
,
YAMAMOTO Y
(Fukui National Coll. Technology, Fukui)
,
MATUBARA K
(Yamaguchi Univ., Yamaguti)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
32
号:
12A
ページ:
5666-5670
発行年:
1993年12月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)