文献
J-GLOBAL ID:200902198661756183
整理番号:01A0230468
軟X線アブレーションによるPTFE低誘電率膜の作製
Preparation of PTFE Low-k Thin Film Deposited by Soft X-ray Ablation.
著者 (8件):
高馬悟覚
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
毎田修
(大阪大 産科研)
,
奥本雅規
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
上野正人
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
北井聡
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
金島岳
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
奥山雅則
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
大橋治彦
(高輝度光科学研究セ 放射光研)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
100
号:
517(SDM2000 167-186)
ページ:
67-72
発行年:
2000年12月21日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)