文献
J-GLOBAL ID:200902198724026040
整理番号:98A0608020
前方ー解放・エッチングー拡散過程を用いた厚型シリコン共振器の加工
Fabrication of Thick Si Resonators with a Frontside-Release Etch-Diffusion Process.
著者 (2件):
WEIGOLD J W
(Univ. Michigan, MI, USA)
,
PANG S W
(Univ. Michigan, MI, USA)
資料名:
Journal of Microelectromechanical Systems
(Journal of Microelectromechanical Systems)
巻:
7
号:
2
ページ:
201-206
発行年:
1998年06月
JST資料番号:
W0357A
ISSN:
1057-7157
CODEN:
JMIYET
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)