文献
J-GLOBAL ID:200902199227330328
整理番号:02A0521535
アンドープおよびN-ドープの水素化非晶質シリコンにおける電子スピン共鳴および一定光電流法によって評価した欠陥密度の比較研究
Comparative Study of Defect Densities Evaluated by Electron Spin Resonance and Constant Photocurrent Method in Undoped and N-Doped Hydrogenated Amorphous Silicon.
著者 (3件):
SHIMIZU T
(Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN)
,
SHIMADA M
(Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN)
,
KUMEDA M
(Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
41
号:
5A
ページ:
2829-2833
発行年:
2002年05月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)