文献
J-GLOBAL ID:200902199647643232
整理番号:94A0129169
高分解能電子ビームレジストとしてのSiO2の特性
Characteristics of SiO2 as a High-Resolution Electron Beam Resist.
著者 (2件):
HIROSHIMA H
(Electrotechnical Lab., Ibaraki)
,
KOMURO M
(Electrotechnical Lab., Ibaraki)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
32
号:
12B
ページ:
6153-6157
発行年:
1993年12月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)