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文献
J-GLOBAL ID：200902199875416564
整理番号：00A0906765
水素化非晶質シリコンの高速蒸着に用いる遠隔SiH4プラズマ中の膜成長前駆体
Film growth precursors in a remote SiH4 plasma used for high-rate deposition of hydrogenated amorphous silicon.
KESSELS W M M
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
VAN DE SANDEN M C M
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
SCHRAM D C
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 18 号： 5 ページ： 2153-2163 発行年： 2000年09月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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