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文献
J-GLOBAL ID：200902201085801098
整理番号：06A0722319
Co-及びMn-イオン打ち込みを行ったシリコンにおける強められた室温強磁性
Enhanced room temperature ferromagnetism in Co- and Mn-ion-implanted silicon
BANDARU P. R.
(Materials Sci. Program, Dep. of Mechanical and Aerospace Engineering, Univ. of California, San Diego, La Jolla ...)
,
PARK J.
(Materials Sci. Program, Dep. of Mechanical and Aerospace Engineering, Univ. of California, San Diego, La Jolla ...)
,
LEE J. S.
(Materials Sci. Program, Dep. of Mechanical and Aerospace Engineering, Univ. of California, San Diego, La Jolla ...)
,
TANG Y. J.
(Materials Sci. Program, Dep. of Mechanical and Aerospace Engineering, Univ. of California, San Diego, La Jolla ...)
,
CHEN L.-h.
(Materials Sci. Program, Dep. of Mechanical and Aerospace Engineering, Univ. of California, San Diego, La Jolla ...)
,
JIN S.
(Materials Sci. Program, Dep. of Mechanical and Aerospace Engineering, Univ. of California, San Diego, La Jolla ...)
,
SONG S. A.
(Analytical Engineering Center, Samsung Advanced Inst. of Technol., P.O. Box 111, Suwon 440-600, KOR)
,
O’BRIEN J. R.
(Quantum Design Inc., 6325 Lusk Blvd., San Diego, California 92121)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 89 号： 11 ページ： 112502-112502-3 発行年： 2006年09月11日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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