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文献
J-GLOBAL ID：200902201225826339
整理番号：05A0637247
閃光焼なましを用いる超浅部打込み接合の先進熱プロセシング
Advanced Thermal Processing of Ultrashallow Implanted Junctions Using Flash Lamp Annealing
SKORUPA Wolfgang
(Inst. Ion Beam Physics and Materials Res., Dresden, DEU)
,
SKORUPA Wolfgang
(Nanoparc GmbH, Dresden-Rossendorf, DEU)
,
GEBEL Thoralf
(Nanoparc GmbH, Dresden-Rossendorf, DEU)
,
YANKOV Rossen A.
(Nanoparc GmbH, Dresden-Rossendorf, DEU)
,
PAUL Silke
(Mattson Thermal Products GmbH, Dornstadt, DEU)
,
LERCH Wilfried
(Mattson Thermal Products GmbH, Dornstadt, DEU)
,
DOWNEY Daniel F.
(Varian Semiconductor Equipment Associates, Massachusetts, USA)
,
AREVALO Edwin A.
(Varian Semiconductor Equipment Associates, Massachusetts, USA)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 152 号： 6 ページ： G436-G440 発行年： 2005年
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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