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J-GLOBAL ID：200902201289740624 整理番号：05A0122205

金属アルミニウムIC膜に及ぼすふっ化アミンクリーニングの化学の影響 II 時間依存性自由エネルギー相関によるOCPの原因となる化学反応の決定

Effects of Amine Fluoride Cleaning Chemistry on Metallic Aluminum IC Films II. Determining Causal Chemistry of OCPs by a Time-Dependent Free Energy Relationship

著者 (1件)：

CARTER M K

(DuPont Electronics Technol., California, USA)

資料名：

Journal of the Electrochemical Society (Journal of the Electrochemical Society)

巻： 152 号： 1 ページ： B30-B38 発行年： 2005年
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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