文献
J-GLOBAL ID:200902201789653620
整理番号:07A0688276
不揮発性メモリ回路におけるドライバMOSFETのFN劣化の総合的研究
A Comprehensive Study of FN Degradation for Driver MOSFETs in Nonvolatile Memory Circuit
著者 (7件):
AONO H.
(Renesas Technol. Corp., Ibaraki, JPN)
,
MURAKAMI E.
(Renesas Technol. Corp., Ibaraki, JPN)
,
MIZUNO T.
(Renesas Technol. Corp., Ibaraki, JPN)
,
SATO H.
(Renesas Technol. Corp., Ibaraki, JPN)
,
HARAGUCHI K.
(Renesas Technol. Corp., Ibaraki, JPN)
,
KATO M.
(Renesas Technol. Corp., Ibaraki, JPN)
,
KUBOTA K.
(Renesas Technol. Corp., Ibaraki, JPN)
資料名:
Annual Proceedings. IEEE International Reliability Physics Symposium
(Annual Proceedings. IEEE International Reliability Physics Symposium)
巻:
44th Vol.1
ページ:
71-75
発行年:
2006年
JST資料番号:
A0631A
ISSN:
1541-7026
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)