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文献
J-GLOBAL ID：200902202052188850
整理番号：04A0601541
フォトリフレクタンスによる強誘電性薄膜/SiO2/Si構造の特性評価
Characterization of Ferroelectric Thin Film/SiO2/Si Structure by Photoreflectance
SOHGAWA M
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KANDA H
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KANASHIMA T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
FUJIMOTO A
(Wakayama National Coll. Technol., Wakayama, JPN)
,
OKUYAMA M
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Ferroelectrics
(Ferroelectrics)
巻： 303 ページ： 717-721 発行年： 2004年
JST資料番号： D0777A ISSN： 0015-0193 CODEN： FEROA8 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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