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文献
J-GLOBAL ID：200902202301295808
整理番号：03A0360928
プラズマ蒸着し水素化した非晶質けい素の表面水素化物組成:イオンフラックス依存性と温度依存性のその場赤外研究
Surface hydride composition of plasma deposited hydrogenated amorphous silicon: in situ infrared study of ion flux and temperature dependence.
MARRA D C
(Univ. California Santa Barbara, CA, USA)
,
KESSELS W M M
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
VAN DE SANDEN M C M
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
KASHEFIZADEH K
(Univ. California Santa Barbara, CA, USA)
,
AYDIL E S
(Univ. California Santa Barbara, CA, USA)
資料名：
Surface Science
(Surface Science)
巻： 530 号： 1/2 ページ： 1-16 発行年： 2003年04月20日
JST資料番号： C0129B ISSN： 0039-6028 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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