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文献
J-GLOBAL ID：200902203077814213
整理番号：08A0108885
RFスパッタリングで作製したBCN膜の微細構造および機械的性質に及ぼす基板バイアスモード(DC,単極性-および両極性パルス)の影響
The effects of substrate bias mode (DC, uni- and bipolar pulse) on the micro-structure and mechanical properties of BCN films prepared by RF sputtering
KIM Jongduk
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya)
,
NAKAO Setsuo
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya)
,
CHOI Junho
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya)
,
MIYAKE Shojiro
(Nippon Inst. Technol., Saitama)
資料名：
Transactions of the Materials Research Society of Japan
(Transactions of the Materials Research Society of Japan)
巻： 32 号： 4 ページ： 869-873 発行年： 2007年12月
JST資料番号： L4468A ISSN： 1382-3469 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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