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文献
J-GLOBAL ID：200902203168763409
整理番号：06A0432126
ドープしたシリコンナノ細線における表面偏析と後方散乱
Surface Segregation and Backscattering in Doped Silicon Nanowires
FERNANDEZ-SERRA M. V.
(Univ. Claude Bernard Lyon 1, Villeurbanne, FRA)
,
ADESSI Ch.
(Univ. Claude Bernard Lyon 1, Villeurbanne, FRA)
,
BLASE X.
(Univ. Claude Bernard Lyon 1, Villeurbanne, FRA)
資料名：
Physical Review Letters
(Physical Review Letters)
巻： 96 号： 16 ページ： 166805.1-166805.4 発行年： 2006年04月28日
JST資料番号： H0070A ISSN： 0031-9007 CODEN： PRLTAO 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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