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文献
J-GLOBAL ID：200902203327562380
整理番号：04A0196479
分割型マイクロ波と結合した電子サイクロトロン共鳴プラズマ源によって蒸着したX線リソグラフィーマスク用タンタル膜
Tantalum film for x-ray lithography mask deposited by electron cyclotron resonance plasma source coupled with divided microwaves
NISHIMURA H
(NTT Corp., Kanagawa, JPN)
,
ONO T
(NTT Corp., Kanagawa, JPN)
,
ODA M
(NTT Corp., Kanagawa, JPN)
,
MATSUO S
(NTT Corp., Kanagawa, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 22 号： 1 ページ： 40-45 発行年： 2004年01月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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