前のページに戻る この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写(冊子体のコピー)をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID:200902204108080260   整理番号:04A0785945

超伝導バルク磁石を用いて活性化されたマグネトロンスパッタリングにより調べた高いアスペクト比を持つ200nmクラスの円形通路に対するCu蒸着による底面被覆

Bottom Coverage of Cu Deposit for 200-nm-Class Circular Vias with High Aspect Ratios Investigated by Magnetron Sputtering Activated Using Superconducting Bulk Magnet
著者 (9件):
HAZAMA H
(Nagoya Industrial Sci. Res. Inst., Nagoya, JPN)
MATSUDA T
(DIAX Co., Ltd., Kasugai, JPN)
MIZUTANI U
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
IKUTA H
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
YANAGI Y
(IMRA MATERIAL R&D Co., Ltd., Kariya, JPN)
ITOH Y
(IMRA MATERIAL R&D Co., Ltd., Kariya, JPN)
SAKURAI K
(ANELVA CORP., Fuchu, JPN)
SEKIGUCHI A
(ANELVA CORP., Fuchu, JPN)
IMAI A
(Nagoya Industrial Sci. Res. Inst., Nagoya, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

巻: 43  号: 9A  ページ: 6026-6031  発行年: 2004年09月15日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写(コピー)して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写(コピー)は郵送またはFAXでお送りします

※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。