文献
J-GLOBAL ID:200902204116669060
整理番号:05A0632673
位相格子に基づくウエハアラインメントシステムの進歩
Advances in Phase-Grating-Based Wafer Alignment Systems
著者 (4件):
KEIJ Stefan
(ASML Netherlands b.v., Veidhoven, NLD)
,
SETIJA Irwan
(ASML Netherlands b.v., Veidhoven, NLD)
,
VAN DER ZOUW Gerbrand
(ASML Netherlands b.v., Veidhoven, NLD)
,
EBERT Earl
(ASML Wilton, Connecticut, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
5752
号:
Pt.2
ページ:
948-960
発行年:
2005年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)